? 適用于課題組的臺(tái)式磁控濺射儀
 ? 體積小巧、操作靈活                   
? 單靶、雙靶選項(xiàng)                         

? 高低真空全覆蓋，適配各類場景

   ? 鍍金、鍍碳、碳金一體，工藝任選

? 真空更強(qiáng)、膜層更勻、操作更簡

     ? 輕松制備 SEM、TEM 優(yōu)質(zhì)導(dǎo)電膜  
? 高質(zhì)量真空鍍膜，一臺(tái)就夠！    

?一鍵鍍膜 全自動(dòng)操作               
?7寸觸摸屏 工作參數(shù)實(shí)時(shí)查看   
?鍍膜過程樣品無溫升                

適用范圍更廣                      

            ?抽氣效率高  2分鐘內(nèi)開始鍍膜              

           ?磁控濺射 薄膜顆粒更小滿足                

高分辨率看樣需求                

                 ?標(biāo)配旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)  薄膜均勻性更好              

INS-20TC

INS-Mini

設(shè)  備  選  型  表