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大尺寸臺(tái)式熱原子層沉積系統(tǒng) ALD 安瑞克(ANRIC)技術(shù)公司開發(fā)的原子層沉積(ALD)是一種氣相薄膜沉積技術(shù)，以其出色的匹配性、均勻性以及亞納米級(jí)的厚度控制而著稱。其基本原理基于自限性表面反應(yīng)，即依次將前驅(qū)體引入到基底上，每次循環(huán)形成一層原子級(jí)薄膜。這種精確的控制使得能夠沉積出無缺陷且可重復(fù)的超薄薄膜，從光滑表面到復(fù)雜的三維結(jié)構(gòu)(如溝槽、多孔材料、纖維、膜和納米管)都能實(shí)現(xiàn)。
更新時(shí)間：2025-10-27
產(chǎn)品型號(hào)：AT-LT
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市面上最小的ALD，可放進(jìn)手套箱，來自美國(guó)哈佛的原子層沉積系統(tǒng) 兼容高溫的快速脈沖 ALD 閥，具有超快 MFC，用于集成惰性氣體吹掃。
更新時(shí)間：2025-10-27產(chǎn)品型號(hào)：AT 200M瀏覽量：2402關(guān)注公眾號(hào)
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